树脂

紫外纳米压印光刻 (UV NIL) 依赖于专用压印材料, 以精确转移图案并在最终应用中实现所需的功能特性。根据用途, 压印材料分为用于图案转移的蚀刻抗蚀剂和用于高折射率光学元件的压印树脂。
以下是每种类型的详细技术特性和要求。用于蚀刻抗蚀剂的压印材料作为中间层, 通过后续的蚀刻工艺将图案转移到底层基板中。

吉佳蓝的蚀刻抗蚀剂产品具有以下特性。

用于光学应用的压印树脂设计具有高折射率, 同时保持优异的透明性和机械稳定性, 使其非常适合制造微光学元件, 衍射光栅和透镜。
在高折射率 (RI) 波导应用中, 低折射率 (Low RI) 覆盖材料对于保护已图案化的波导结构并保持最佳光学性能至关重要。这些材料在光学系统中起到双重作用, 不仅保护波导图案的物理完整性, 还提高其功能效率。
吉佳蓝的光学应用产品具有以下特性。