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表面处理

紫外纳米压印光刻 (UV-NIL) 依赖于纳米级精确图案化,因此需要高质量的材料以确保工艺效率和产品质量。在此过程中,两种关键材料是增强附着力的底涂剂和脱模涂层。这些材料功能不同,但对压印成功和模具维护至关重要。

增强附着力的底涂剂涂层

底涂剂用于增强压印抗蚀剂与基板之间的附着力。强附着力对于防止在后续工艺(如蚀刻或机械处理)中发生剥离至关重要。

增强附着力的底涂剂涂层 吉佳蓝的产品具有以下特点。

1. 表面能修饰

通常通过增加基板的亲水性或提供与抗蚀剂材料兼容的官能团来提高附着力。

2. 化学兼容性

与基板(如硅、玻璃、聚合物)和压印抗蚀剂兼容。

3. 薄膜形成

能形成均匀的超薄涂层 ( < 10 nm ),以避免影响图案的精确性。

4. 热稳定性与化学稳定性

在紫外固化条件下,以及暴露于蚀刻气体或清洗溶剂时保持稳定。

5. 易于涂覆

与标准涂覆技术(如旋涂、喷涂)兼容。

6. 对光学性能的低影响

对于光学应用,底涂剂不应引入不必要的折射率变化或光吸收。

用于母模的脱模涂层
脱模涂层用于母模表面,以减少模具表面与压印抗蚀剂之间的粘附,防止脱模过程中模具受到污染或损坏。

1. 低表面能

涂层必须显著降低表面能,以最小化抗蚀剂的粘附性。

2. 薄且均匀的涂层

脱模涂层必须是超薄的 ( < 5 nm),以保留模具的高分辨率图案。

3. 耐久性和可重复使用性

能够承受多次紫外照射和机械接触,而不会退化或剥落。

4. 化学稳定性

抗蚀剂溶剂、紫外固化环境以及清洗工艺不会对涂层造成影响。

5. 易于涂覆

涂层应能够通过旋涂或喷涂方式轻松施加。

产品名称 粘度 (cps) 热固化条件 产品中使用的溶剂 目标应用 主要基板
LS40f (Release) 0.7~0.8 120℃ / 20min Confidential Spin coating Glass/Wafer
GPA2 (Adhesion) 1.3~2.3 130℃ / 3min Spin coating / Surface Adhesion Glass/Wafer