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CCP ETCHER

CCP(Capacitively Coupled Plasma)作为最适合Dielectrics刻蚀的Plasma Source,Gigalain CCP刻蚀设备采用了多种最新技术,是确保高刻蚀选择性和均匀性的高性能CCP刻蚀设备。
Features
  • 使用CCP Type的设备,可实现稳定的设备运用

    CCP Type Plama Source,粒子间拥有巨大能量(有利于单一物质蚀刻)
    低维护费用及稳定性、量产性优秀

  • 可调节工程Gas的Center和Edge的Ratio

    应用FRC(Flow ratio Controller)调节混搭工艺气体的Center和Edge之间的比率,有利于确保均匀性。

  • Dual He结构

    Center和Edge的Back He可以单独控制,有利于确保均匀性

  • 提供特殊功能

    为了刻蚀多种材质、符合产品的形状,可实现Recipe tuning因子Ramping(Up,Down)功能。
    为了卓越的选择费和刻蚀适合产品的形状而提供强大的Pulsing功能。
    研究、批量生产时,为节省时间,提供工程预约功能。

提供多种Flatform
  • NeoS-ADF200
  • NeoGEN-ADF200
  • NeoGENII-ADF200
Process Data
Oxide
ACL