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HOME - 产品中心ICP ETCHER
SAW Filter Etcher执行金属蚀刻，这是SAW filter和oxide etch制造中最重要的工艺。它在蚀刻时保持稳定和低工艺温度，以获得高质量的锯切滤器并将目标表面的损坏最小化。
Features
- 专为Plasma稳定性设计的Dual ICP Source（13.56MHz）
通过稳定的plasma形成，提供了确保均匀性和再现性的工程结果。
- 根据Wafer尺寸、材质提供多种chuck
高电阻ESC、低电阻ESC、单极ESC、正极ESC、Mecanical chuck
- 提供特殊功能
为了刻蚀多种材质、符合产品的形状，可实现Recipe tuning因子Ramping（Up，Down）功能。
为了卓越的选择费和刻蚀适合产品的形状而提供强大的Pulsing功能。
研究、批量生产时，为节省时间，提供工程预约功能。 - 可与使用VDS和Remote Plasma的Ashing chamber组合
Metal工艺后，可以防止腐蚀的 H2O Vapor功能，可以进行Photo resist的去除工程。
提供多种Flatform
- Neos-MAXIS200L
- NeoGEN-MAXIS200L
- NeoGENII-MAXIS200L
- Neos-MAXIS200H
- NeoGEN-MAXIS200H
- NeoGENII-MAXIS200H
- Neos-MAXIS300H
- NeoGENIII-MAXIS300H
- NeoGENIII-MAXIS300T
Process Data by Materials
| Quartz |  |
|---|---|
| Aluminum |  |
| GaAs |  |
| SiC |  |
| GaN |  |
| AlGaInP |  |
| InP |  |
